7月21日，國星光電對外發布關于取得發明專利證書的公告，公告稱，公司于近日取得一項發明專利，并獲得了由國家知識產權局頒發的專利證書。

    據悉，該項專利的名稱為用于在晶圓級封裝中暴露電極的方法及掩膜版，專利是申請日為2012 年 06 月 13 日，授權日為2015 年 6 月 17 日，有效期為20年。

    國星光電表示，該專利的專利權人為公司。此項專利的取得不會對公司生產經營產生重大影響，但有利于保護和發揮公司自主知識產權優勢，形成持續創新機制，保持技術領先地位，提升公司的核心競爭力。